簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "陳炤彰".cadvisor (精準) and ckeyword.raw="原子力顯微鏡"


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    原子力量測於化學機械拋光之磨料作用力分析研究
    • 機械工程系 /99/ 碩士
    • 研究生: 黃國維 指導教授:
    • 在半導體元件製程應用上,化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)為其重要製程之一,它透過研磨墊、漿粒、晶圓三者間彼此交互作用,使晶圓達到平坦化之效果以利後…
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    以顆粒式AFM探針刮削法評估銅薄膜之奈米機械性質與表面介面能量
    • 機械工程系 /105/ 博士
    • 研究生: 趙俊傑 指導教授:
    • 本研究目的為探討二氧化矽顆粒於化學機械研磨/平坦化(CMP)製程中的加工機制。研究方法是將直徑為800奈米的二氧化矽顆粒黏著於探針尖端,形成顆粒式探針(tip-grit),與運用封閉式回饋控制系統原…
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